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QuantenkaskadenlaserRekord bei Terahertzpuls-Erzeugung

Juraj Darmo, Dominic Bachmann und Karl Unterrainer (von links) im Laserlabor des Photonik Instituts. (Copyright: TU Wien)

Einer Gruppe von Forschern der TU Wien und der ETH Zürich gelang es, ultrakurze Terahertzlichtpulse zu erzeugen. Diese nur wenige Pikosekunden langen Pulse sind hervorragend für spektroskopische Anwendungen geeignet und ermöglichen ultragenaue Frequenzmessungen.

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RFA-Geräte PHOENIX II/XEPOSPassivierungsschichten überwachen

Als einer der führenden Hersteller im Bereich Röntgenfluoreszenzanalytik (RFA) hat SPECTRO für das SPECTRO PHOENIX II eine neue Applikation für At-line-Analysen in der Metallindustrie entwickelt. Mit dem robusten RFA-Gerät lassen sich Beschichtungen aus Silan, Phosphor, Zirkon, Titan, Vanadium und Chrom messen. Die Nachweisgrenze liegt für Phosphatierungen etwa bei 13 g/m².

RFA-Geräte PHOENIX II/XEPOS: Passivierungsschichten überwachen

SPECTRO hat die neue Applikation in einem Bericht dokumentiert. Er beschreibt die Messanordnung und die Ergebnisse mehrerer Testreihen: Chrom-, Titan- und Zirkonbeschichtungen auf Aluminium, Chrom- und Phosphorbeschichtungen auf Stahl sowie eine Silanbeschichtung auf chromatiertem Stahl. Der Applikationsbericht kann ab sofort unter http://www.spectro.com angefordert werden.

In Einsatzbereichen, in denen die Spektrallinien der Beschichtung und des Trägers sehr nahe beisammen liegen, stößt das SPECTRO PHOENIX II an seine Grenzen. Typische Beispiele sind die Messung dünner Zirkonbeschichtungen auf Aluminium oder dünner Chromatierungen auf Stahlblech. Für diese Anwendungsgebiete bietet SPECTRO als Alternative das High-End-RFA-Gerät SPECTRO XEPOS an. Zusätzliche Vorteile bietet das XEPOS in Labors mit hohem Probenaufkommen: Der Probenteller des XEPOS kann mehrere Proben gleichzeitig aufnehmen, die automatisiert nacheinander abgearbeitet werden. Die Untersuchung von Beschichtungen mit SPECTRO XEPOS ist ebenfalls in Applikationsberichten dokumentiert.

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