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Hochtemperaturofen bis 2100 °C, 4 - 52 l. Schutzgas, Partialdruck, Vakuum, Gasrückkühlung

Hochtemperaturofen bis 2100 °C, 4 - 52 l. Schutzgas, Partialdruck, Vakuum, Gasrückkühlung

Hochwertige Hochtemperaturöfen für universelle Wärmebehandlungen, Graphitisieren, Sintern, Vakuumlöten z. B. in der Glas- und Keramikindustrie, Nuklearindustrie, Metallindustrie, F&E.
Graphitfilz-Isolation. Vakuumdichte Ofenkammer mit Drehschieberpumpe und Turbomolekularpumpe bis 5 x 10-4; mbar.
Nutzraum: bis 52 l, Tmax: 2100 °C.
Schutzgase: Formiergas, Stickstoff, Argon.
Umfangreiche Optionen ermöglichen universellen Einsatz:
- auch für H2-Betrieb, Begasungs- und Abfackelungseinrichtung, Sicherheitspaket,
- Vakuumpumpstände, Partialdruckregelung,
- Kondensatfalle, Taupunktmesseinrichtung,
- 3-Zonen-Regelung,
- Graphit-Heizelemente,
- Gasrückkühlung, Umlaufkühler und Notwasserversorgung.

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