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Plasma Profiling TOFMS bietet neue Möglichkeiten in der Materialanalyse

Plasma Profiling TOFMSEnormes Potential bei Oberflächenanalysen

Horiba Scientific bietet für die Materialforschung, insbesondere der Analyse von Oberflächen und Schichten, eine noch „junge“ Analysentechnik an: das Plasma Profiling TOFMS (PP-TOFMS). Diese bietet ein enormes Potential in der Analyse von elementaren Zusammensetzungen und der Tiefenverteilung von verschiedenen Elementen.

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Plasma Profiling TOFMS

PP-TOFMS basiert auf einem sehr schnellen plasmagestützten Sputtervorgang in Kombination mit einer ultraschnellen Signalerfassung durch ein Time-of-Flight-Massenspektrometer. Mit typischen Sputterraten von 30 nm/s und der kontinuierlichen Erfassung von kompletten Massenspektren alle 30 µs kann die Information „Elementzusammensetzung gegen Tiefe“ innerhalb von wenigen Minuten mit typischen Tiefenprofilauflösungen von 1 nm erfasst werden. Dadurch werden wertvolle Informationen über die Tiefenverteilung der Hauptelemente, von Dotierungen aber auch von unerwünschten Verunreinigungen generiert. Dadurch, dass die Empfindlichkeit für alle Elemente bis auf C, H, N und O nahezu gleich ist, lässt sich auch eine standardlose, halbquantitative Konzentrationsbestimmung über mehrere Dekaden durchführen.

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Minimale Probenvorbereitung und ein Probentransfer ohne Ultrahochvakuum leisten ihren Beitrag zur hohen Analysengeschwindigkeit und machen das PP-TOFMS zu einem benutzerfreundlichen Werkzeug.

Mehr zu dieser innovativen Analysentechnik erfahren Sie in diesem Video.

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