Lithographie- und Strukturierungs-Lösungen

Merck auf der SPIE 2015

Merck stellt Lithographie- und Strukturierungs-Lösungen der nächsten Generation auf der diesjährigen SPIE Advanced Lithography 2015 (San Jose, USA, 22. bis 26. Februar) vor. Grund hierfür ist die Übernahme von AZ Electronic Materials im letzten Jahr, einem Hauptlieferanten von Lithographie- und Strukturierungs-Materialien und seit über 30 Jahren Teilnehmer der SPIE.

Merck zeigt in San Jose Strukturierungs-Lösungen der nächsten Generation – mit Schwerpunkt auf den neuesten Entwicklungen bei Directed-Self-Assembly (DSA), Spin-On Metalloxid-Hartmasken (MHM) und Chemical Shrink-Materialien für hochauflösende Lithographie. Diese strukturierenden Materialien ermöglichen die Entwicklung von fortschrittlichen integrierten Schaltungen und Mikroelektroniktechnologie, welche in vielen Geräten der Unterhaltungselektronik der nächsten Generation, wie Smartphones oder Tablet-Computern zu finden sind.

Merck lädt die SPIE-Besucher zu acht Präsentations-Sessions ein, um vor Ort über die neuesten Entwicklungen für die hochauflösende Lithographie zu informieren.

Weiter Informationen finden Sie unter http://spie.org/advanced-lithography.xml

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