UV/VIS/NIR-System NanoCalc-2000

Spektroskopische Reflektometrie

NanoCalc-2000 ist ein vielseitiges und konfigurierbares Messsystem für Thin Film Metrologie und bietet eine schnelle, zuverlässige und praktische Methode für die Bestimmung von transparenten dünnen Schichten.

Abhängig von den Materialien für Schicht und Substrat ist es möglich, Schichtdicken ab 10 nm bis einige 100 µm zu messen. Die Verwendung eines breiten Lichtspektrums (250...1100 nm) in Zusammenhang mit leistungsstarken Algorithmen zur Simulation ermöglichen eine umfangreiche Vermessung von Standardschichten wie Oxide, Nitride und Fotolacke auf Substraten wie Silicium oder Glas. Durch Simulationsalgorithmen, die eine vorhandene Oberflächenrauigkeit sowie Defekte in der Schicht berücksichtigen können, erweitert sich der Einsatzbereich des Systems um vielfältige weitere industrielle oder medizinische Applikationen. So können Messungen an Tyvek®, an transparenten Folien, an Härtebeschichtungen auf Metallen (z.B. DLC – diamond like carbon), an Schichten auf ungeschliffenen Substraten und selbst an Metallschichten (Transparenz vorausgesetzt) durchgeführt werden.
Kurze Messzyklen zusammen mit einer flexiblen Platzierung des Messkopfes erleichtern die Integration in bestehende Anwendungssysteme. So ist die Verwendung mit Mikroskopen für die In-situ-Prozessüberwachung möglich. Die Vermessung von Mehrschichtsystemen, die Erstellung von 3D-Profilen der Schichtdicke, eine On-line-Datenaufnahme sowie die Fernsteuerung über ActiveX sind ebenfalls optional erhältlich.

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