Know-how für höchste Packungsdichten (www.industrial-production.de)
PI ist strategischer Partner der Carl Zeiss SMT
Grafik- oder Computer-Anwendungen mit hohem Speicherbedarf, hochauflösende digitale Kamerasysteme und nicht zuletzt auch die Forderung nach möglichst geringem Stromverbrauch verlangen nach ständig höheren Packungsdichten in der Halbleiterfertigung. Moderne Lithografieverfahren liefern die Grundlage dafür, dass die Chips immer kleiner werden und sich extrem feine Strukturen auf den Siliziumwafern realisieren lassen.
mehr...Zusammenarbeit zwischen Carl Zeiss und PTB zur EUV-Lithografie ausgeweitet
Der Unternehmensbereich Halbleitertechnik von Carl Zeiss und die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) werden auch zukünftig bei der Vermessung von Optiken der EUV-Lithografie (Extreme-Ultraviolett-Lithografie) zusammen arbeiten. Die Kooperation der beiden Institutionen wurde nun um vier Jahre verlängert.
mehr...Nano Image Contest erfolgreich gestartet
Mehr als 70 Anwender von ZEISS Elektronen- und Ionenmikroskopen aus aller Welt haben bereits ihre Nano-Meisterwerke beim ersten Carl Zeiss Nano Image Contest eingereicht.
mehr...Online-Wettbewerb
Unter dem Motto "Präsentieren Sie Ihr Nano-Meisterwerk" lädt Carl Zeiss alle Anwender von Zeiss Elektronen und Ionenmikroskopen ein, sich am ersten Carl Zeiss Nano Image Contest zu beteiligen.
mehr...Elektronen-/Ionenmikroskop AURIGA (www.labo.de)
Neue Baureihe stößt weltweit auf großes Interesse
An der Ludwig-Maximilians-Universität (LMU) München wurde kürzlich das erste AURIGA™ CrossBeam® Elektronen-/Ionenmikroskop offiziell eingeweiht. Weltweit ist das Interesse an dem neuesten CrossBeam System von Carl Zeiss erheblich.
mehr...CrossBeam-System AURIGA (www.labo.de)
CrossBeam-System für die Nanotechnologie
Carl Zeiss bietet jetzt ein neu entwickeltes System für Mikroskopie, Analyse und Bearbeitung von Präparaten in den Materialwissenschaften, den Life Sciences und der Halbleitertechnologie an. Das AURIGA™, eine Kombination aus Elektronenmikroskop und Gallium-Ionensäule, ermöglicht es, Materialproben hochaufgelöst abzubilden und sie chemisch zu analysieren.
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