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Innovatives ICP-OES-Gerät - Axiale und radiale Plasmabetrachtung

Innovatives ICP-OES-GerätAxiale und radiale Plasmabetrachtung

Spectro Analytical Instruments bringt mit dem neuen ARCOS ein innovatives ICP-OES-Gerät der höchsten Leistungskategorie auf den Markt. Als erstes Optisches Emissions-Spektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma in dieser Leistungsklasse ermöglicht es eine axiale und radiale Plasmabetrachtung ohne Zuhilfenahme eines Periskops und folglich ohne die damit verbundenen Kompromisse bei der Leistungsfähigkeit.

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Optisches Emissions-Spektrometer

„Wir haben das Spitzenmodell für die höchsten Ansprüche entwickelt, die Industrie, Laborpraxis und Wissenschaft heute an ihre Elementanalytik stellen“, erklärt Spectro Geschäftsführer Manfred Bergsch. „Bei der Empfindlichkeit, Stabilität und Genauigkeit erreicht das Gerät neue Spitzenwerte in der ICP-Technologie. Auch ist es uns gelungen, mit innovativen Komponenten den Energieverbrauch und die Betriebskosten des Geräts zu senken und dem Anwender optimale Flexibilität zu bieten.“

Das ARCOS eignet sich für die schwierigsten Aufgaben in der Elementanalytik von Metallen, chemischen und petrochemischen Substanzen und in der Umweltanalytik. Mit der neuesten Produktgeneration des ARCOS, so Manfred Bergsch, sei es gelungen, viele technische Schwierigkeiten, die bislang für Leistungsrestriktionen gesorgt hätten, zu beheben.

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Leistungsmerkmale des neuen ICP-OES-Geräts:

  • Axiale oder radiale Plasmabetrachtung: Mit der neuen MultiView-Option ist es möglich, in weniger als 90 s und nur vier Arbeitsschritten das Plasma-Interface von der radialen zur axialen Betrachtungsweise (oder umgekehrt) umzustecken. Folglich kann das ARCOS als Radial-Gerät höhere Gehalte mit hoher Genauigkeit bestimmen – und kaum 2 min später als Axial-Gerät in der Spurenanalytik im ppb-Bereich eingesetzt werden.
  • Optik in optimierter Paschen-Runge-Aufstellung (ORCA): Die CCD-Optik ermöglicht eine bisher überragende Auflösung von 8,5 pm im Wellenlängenbereich von 130…340 nm.
  • Innovativer Generator: Der robuste, digital angesteuerte Halbleitergenerator bietet eine außerordentliche Leistungsabgabe und ermöglicht damit höchste Stabilität des Plasmas auch bei hoher und schwankender Last.
  • Kein Spülgas erforderlich: Die Optik ist durch das UV-PLUS-System gekapselt. Eine Spülung mit Argon oder Stickstoff ist nicht erforderlich. Damit erübrigt sich die Anschaffung von kostenintensiven Betriebsstoffen und störanfälligen Gassystemen.
  • Kein externes Kühlsystem: Das Plasma-Interface und der Generator sind luftgekühlt. Daher kann auf eine externe Kühlung verzichtet werden. Auch dadurch sinken die Gesamtkosten des Systems.
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