Vakuumlötöfen VLO 20/300
Neue Vakuumlötöfen
Der Hersteller und Spezialist für hochentwickelte Anlagen für thermische Halbleiter- und Photovoltaikprozesse – centrotherm thermal solutions GmbH & Co. KG – stellte kürzlich den neuen Vakuumlötofen mit Lampenheizung VLO 20 vor, der, speziell für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen sowie für kleinere Stückzahlen konzipiert, durch seine flussmittelfreie, lunkerfreie und ultrasaubere Löttechnik besticht. Außerdem präsentierte die schwäbische High-Tech-Schmiede ihr Vakuumlötsystem VLO 300. Der besonders für hohe Produktionszahlen ausgelegte Lötofen zeichnet sich vor allem durch seine Anwendungsvielfalt in Bezug auf die verwendeten Gasatmosphären wie beispielsweise Stickstoff (N2), Wasserstoff (H2) bis 100 % oder N2/H2 95/5 % sowie durch seine hohe Prozesstemperatur von bis zu 650 °C aus.
Mit dem Vakuumlötsystem VLO 20 entwickelte das Unternehmen ein System, das aufgrund seiner Lampenheizung über eine noch schnellere Aufheizrate als die bisherigen Heiz- und Kühlkörper (Platten) verfügt und für eine max. Prozesstemperatur von bis zu 450 °C ausgelegt ist. Dabei überzeugt VLO 20 durch seine herausragende Temperaturkonstanz. Die Anlage ist für verschiedene Gasatmosphären ausgelegt. Ultrasaubere Lötstellen werden über die trockenchemische Aktivierung mit Radiofrequenz- (RF) oder Mikrowellenplasma (MW) erzielt.
Das VLO 300 Vakuumlötsystem ist das Arbeitstier unter den Lötöfen und ist speziell für hohe Produktionsstückzahlen ausgelegt. Ausgestattet mit individuell kontrollierbarem integrierten Heiz- und Kühlkörper (Platten) verfügt die Anlage ebenfalls über eine hervorragende Temperaturkonstanz. Mit beiden VLO 300 und VLO 20 können auch bleifreie Pasten oder Pre-forms ohne zusätzliche Flussmittel verwendet werden.
„Wir decken mit unseren Vakuumlötsystemen VLO 20 und VLO 300 zwei verschiedene Produktionsvarianten ab: Zum einen sprechen wir die Einrichtungen an, die den Lötofen VLO 20 für Forschungs- und Entwicklungszwecke oder für kleinere Stückzahlen nutzen. Mit dem VLO 300 liefern wir speziell für Unternehmen mit der Anforderung für große Durchsatzmengen ein leistungsfähiges und langlebiges Tool zur kosteneffizienten Produktion. Beide Vakuumlötöfen sind gleichermaßen für eine Vielzahl von Applikationen prädestiniert, so für beispielsweise die Hybrid-Mikroelektronik-Bestückung, Leistungshalbleiter, optoelektronisches Packaging, Wafer Level oder UHB LED Packaging sowie für MEMS Gehäuseabdichtung – um nur einige der Anwendungsfelder zu nennen“, erläutert Dr. Andrea Elser, Leiterin Business Development bei centrotherm thermal solutions. „Basierend auf der gleichen Control-Software sind beide Versionen mit einem Touchscreen inklusive einem Prozesscontrol-PC ausgestattet, der die centrotherm machine control (cmc) betreibt. Das macht unsere Produkte zu extrem anwenderfreundlichen Tools sowohl in der Bedienung als auch beim Schreiben bzw. Editieren von Prozessprofilen oder der Rezeptspeicherung. Der modulare Aufbau sowie die Möglichkeit, mehrere Prozesse parallel zu verarbeiten und zu steuern, stellen einen bedeutenden Vorteil bei sicherheitskritischen Prozessen dar“, so Dr. Elser weiter. Eine serielle Schnittstelle ermöglicht einen einfachen Datentransfer zum PC. Damit kann auch im Offline-Modus programmiert oder über Remote-Control ein zuverlässiges Servicemonitoring durchgeführt werden.
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