HG-Analysator DMA-80 G

Messung von Hg in Gasen

Die Quecksilberanalytik von Flüssigkeiten in einem weiten Konzentrationsbereich von Oberflächenwasser bis hin zu Aufschlusslösungen kann durch die Einführung des DMA-80-Systems von MLS vor drei Jahren sehr gut bis in den Ultraspurenbereich bewerkstelligt werden. Wer aber die Quecksilberkonzentration aus Gasen bestimmen wollte, musste einen bislang großen Arbeitsaufwand bzw. eine kostspielige Methode in Kauf nehmen. Damit ist jetzt Schluss.

Eine Weltneuheit, auf der Analytica 2010 vorgestellt, ist der Hg-Analysator DMA-80 G von MLS. Mit ihm kann der Anwender erstmals Proben aller Aggregatzustände direkt und ohne Probenvorbereitung auf Quecksilber untersuchen. Mit seinen drei Küvetten verfügt das System über einen außergewöhnlich großen Messbereich und dank leistungsfähiger Anreicherung über eine Nachweisgrenze von 3 pg Hg absolut.

Das System kann jetzt durch einen speziellen Zusatz für die direkte Gasmessung erweitert werden. Somit können Gasproben aus der Raumluft, aus einem Gassammelballon oder von einer Emissionsquelle angesaugt und direkt gemessen werden. Der DIA-Zusatz (Direct-Injection-Accessory) erlaubt es, selbst brennbare Gase wie z.B. Propan mit definiertem Volumen über ein Septum einzuspritzen. Alle Gasproben werden durch einen Katalysator geleitet und auf einem Amalgamator angereichert. Die Messung erfolgt über ein integriertes AA-Spektrometer.

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Nicht immer kann das Gerät an der Gasquelle stehen. Manchmal muss das Gas erst zum Gerät gelangen. Auch dieses Problem hat MLS sehr elegant gelöst und zwar mit zusätzlichen Adsorptionsröhrchen, die Quecksilber dauerhaft binden können. Mit deren Hilfe kann Hg aus Gasen direkt vor Ort, z.B. im Feldversuch, gesammelt werden. Das mehrfach einsetzbare Röhrchen wird dann, ohne es zu entleeren, direkt in den Autosampler gesetzt. Nach nur 4 min steht der Messwert fest. Die indirekte Messung per Adsorptionsröhrchen kann mit allen DMA-80-Grundgeräten durchgeführt werden. Für die direkte Gasmessung ist das DMA-80 G Voraussetzung. Beide Verfahren sind geschützt (patent pending).

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