Doppeldosiersystem
Oberflächenenergie von Feststoffen bestimmen
In Kombination mit einem Kontaktwinkelmessgerät der OCA-Serie macht das druckbasierte Doppeldosiersystem DDS-P von „DataPhysics Instruments“ eine einfache und effiziente Bestimmung der Oberflächenenergie von Feststoffen laut Hersteller in nur einer Sekunde möglich. Deshalb ist das Dosiersystem in der Qualitätskontrolle sowie für Forschungs- und Entwicklungsabteilungen mit hohem Probendurchsatz besonders geeignet.
Die Oberflächenenergie ist ein wichtiger Parameter zur Charakterisierung von Feststoffoberflächen, der Rückschlüsse auf die Haftung und Spreitung von Flüssigkeiten auf der Oberfläche zulässt. Deshalb ist die Oberflächenenergie in vielen Bereichen, wie etwa in der Entwicklung und Produktion von Lacken und Farben, Klebstoffen sowie bei Oberflächenbehandlungen von größter Bedeutung. Experimentell ist es notwendig, für die Bestimmung der Oberflächenenergie Kontaktwinkelmessungen durchzuführen, wozu Tropfen von mindestens zwei Testflüssigkeiten auf den Feststoff dosiert werden müssen. Das Dosiermodul DDS-P ist mit vielen Kontaktwinkelmessgeräten der OCA-Serie von DataPhysics Instruments kombinierbar.
Ist das DDS-P-System auf dem OCA-Kontaktwinkelmessgerät montiert, kann losgelegt werden: Der Anwender positioniert die Probe auf dem Probentisch und stellt einmalig den Abstand zu den Ventilen des DDS-P ein. Bei gleicher Probengeometrie kann diese Einstellung gespeichert und bei jeder weiteren Probe wiederverwendet werden. Durch die Gerätesoftware „dpiMAX“ genügt ein Klick auf die Schaltfläche zur Oberflächenenergiebestimmung, und der automatisierte Mess- und Auswerteprozess beginnt.
Das System DDS-P dosiert mithilfe einer Druckdosierung gleichzeitig Tropfen zweier verschiedener Testflüssigkeiten, wie etwa Wasser und Diiodmethan, auf die Probe. Die Software misst daraufhin deren Kontaktwinkel und zeigt dann direkt das Ergebnis für die Oberflächenenergie des Feststoffs mit ihrem polaren und dispersen Anteil an. Der Oberflächenenergie-Berechnung liegt das Modell von Owens, Wendt, Rabel und Kaelble (OWRK-Modell) zugrunde.
Quelle: DataPhysics Instruments
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