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Artikel und Hintergründe zum Thema

Elementanalytik mit ICP-OES

Barbara Schick,

Optisches Emissionsspektrometer für die Routineanalytik

Spectro Analytical Instruments hat die Einführung des ICP-OES-Geräts „SPECTRO GENESIS“ bekannt gegeben. Die Entwicklung des Spektrometers zielte u.a. auf eine hohe Messempfindlichkeit, hohen Probendurchsatz, kompaktes Design und einfache Bedienbarkeit.

© SPECTRO Analytical Instruments

Zu den Verbesserungen dieses ICP-OES-Geräts zählen nach Angaben des Herstellers:

• Eine deutlich verbesserte Messempfindlichkeit durch das Upgrade auf die besondere DSOI-Plasmabetrachtungstechnologie von Spectro. Dadurch entfällt die bei der dualen Plasmabetrachtung übliche zweite Messung, Matrixeffekte werden reduziert und die Richtigkeit verbessert. Zudem ermöglicht die hohe Matrixtoleranz Analysen in geringeren Verdünnungen. Damit eignet sich das Spektrometer „SPECTRO GENESIS“ für ein breiteres Anwendungsspektrum in den Bereichen Umwelt (Wasseranalytik, Abwasserkontrolle) und Prozesskontrolle.

• Größe und Gewicht dieses ICP-OES-Geräts wurden reduziert, was die Installation auf kleinen Labortischen erleichtert.

• Verbesserte Gerätebedienung: Ein spezielles Plasmafackel-Montage-Bajonett ermöglicht eine schnelle und einfache Installation der Fackel; die Art des Anschlusslayouts für einen barrierefreien Zugang; kurze Flüssigkeitswege vereinfachen den Probeneintrag und verkürzen die Zeiten zwischen den Proben (Wechsel zur nächsten Probe); ein intelligentes Schaltventilsystem (optional) macht ein schnelles Laden der Proben möglich.

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• Die Solid-State-Detektoren basieren auf CMOS-Zeilensensoren (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor). Sie können auch schwache Signale von Spurenelementen messen. Darüber hinaus haben die CMOS-Sensoren einen hohen Dynamikbereich, benötigen keine „On-Chip“ Kühlung und sind frei von sog. „Blooming“.

• Das neue Hochgeschwindigkeits-Auslesesystem erreicht eine kurze Integrationszeit von 0,1 Millisekunden und einen größeren Dynamikbereich. Damit können Signale in direkter Nähe intensiver Matrixlinien gemessen werden.

• Der LDMOS-Generator (LDMOS = lateral diffused metal oxide semiconductor) liefert bis zu 1.700 W Leistung und zeichnet sich nach Herstellerangaben durch eine hohe Plasmarobustheit und damit durch eine hohe Matrixkompatibilität aus. Dadurch können Proben in geringerer Verdünnung gemessen werden, was die Nachweisempfindlichkeit verbessert. Der Aufwand für die Probenpräparation kann gegebenenfalls reduziert werden oder ggf. ganz entfallen.

• Die zeitgesteuerte Aufwachfunktion kann Gas und Energie sparen. Zu einem festgelegten Zeitpunkt wird dabei automatisch der Betriebsbereitschaftszustand aktiviert.

Quelle: SPECTRO Analytical Instruments

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