Entwicklung der EUV-Lithographie

Deutscher Zukunftspreis 2020 an Team von Zeiss, Trumpf und Fraunhofer IOF

Das Team der Zeiss Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) wurde mit dem Preis des Bundespräsidenten für Technik und Innovation für die Entwicklung der EUV-Lithographie gewürdigt.

Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier zeichnete am Mittwoch in einer feierlichen Zeremonie das Team der Zeiss Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020 aus. Die Jury würdigte damit Dr. Peter Kürz, Zeiss, Dr. Michael Kösters, Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, und Dr. Sergiy Yulin, Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena, für ihren wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie.

„Wir freuen uns über den Deutschen Zukunftspreis und sind sehr stolz auf das Team, das hinter der außerordentlichen Entwicklungsleistung der EUV-Technologie steht“, so Dr. Karl Lamprecht, Vorstandsvorsitzender der Zeiss Gruppe. „Gleichzeitig ist der Preis und die doppelte Nominierung eine schöne Bestätigung der Innovationskraft unseres Unternehmens, die den wirtschaftlichen und gesellschaftlichen Fortschritt gleichermaßen fördert.“

Der Bundespräsident ehrt mit dem Preis Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftler für herausragende technische, ingenieur- und naturwissenschaftliche Leistungen, die zu anwendungsreifen Produkten führen. Er ist mit 250 000 Euro dotiert. Neben der wissenschaftlichen Exzellenz ist auch ein klar erkennbarer Nutzen für die Gesellschaft, die Umwelt und für die Wirtschaft kennzeichnend für die Preisträger-Projekte.

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„EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter“
EUV steht für „extrem ultraviolett“, also Licht mit extrem kurzer Wellenlänge. Mit dieser Technologie lassen sich in diesem und dem nächsten Jahrzehnt stetig leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen. Diese bilden die Basis für Autonomes Fahren, 5G, Künstliche Intelligenz und viele weitere neue Anwendungen, die heute noch nicht vorstellbar sind.
 
Heute hat bereits ein Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers, der 1969 die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird dies durch einen kaum fingerkuppengroßen Mikrochip, auf dem sich mehr als 10 Milliarden Transistoren befinden.
 
Die Preisträger haben einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung der EUV-Technologie als Fertigungsverfahren für die neuesten Chip-Generationen geleistet, das die bisherigen Grenzen des technisch Machbaren überwindet. Das Resultat ist eine durch über 2 000 Patente abgesicherte Zukunftstechnologie, die Basis für den künftigen technischen Fortschritt und die Digitalisierung unseres Alltags bildet.
 
Die EUV-Lithographie ist ein Beispiel dafür, welcher technologische und ökonomische Mehrwert durch Kooperation, Forschergeist und nachhaltiges Engagement erreichbar ist. Verbunden mit EUV haben Zeiss und Trumpf in diesem Jahr zusammen mehr als eine Milliarde Euro umgesetzt und bis heute schon mehr als 3 300 Hochtechnologie-Arbeitsplätze geschaffen.
 
Doppelte Bestätigung für innovative ingenieur- und naturwissenschaftliche Leistungen
Zeiss stellte als erstes Unternehmen in der Geschichte des Deutschen Zukunftspreises, der seit 1997 vergeben wird, zwei der nominierten Teams. Neben dem Preisträger-Team der SMT gehört auch ein Team der Zeiss Sparte Medical Technology zum „Kreis der Besten“. Die hochkarätige Jury wählt in einem mehrstufigen Prozess aus einer Vielzahl an Projekten jedes Jahr drei Forscherteams und ihre Innovation in diese Endrunde des Preises.
 
Zeiss investiert nach eigenen Angaben jedes Jahr über 10 Prozent seines Umsatzes in Forschung und Entwicklung. Optische Technologien sind essenziell für den Fortschritt in Lebenswissenschaften, Medizin, Informationstechnologie und Telekommunikation, Automotive, Consumer Products und vielen anderen Bereichen. 

Quelle: Zeiss

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